VTC-50A旋轉涂膜機供電系統采用了電機部分與控制部分分別使用獨立電源的方式，調速系統則采用了抗干擾性高的單片機進行控制，使得轉數在高達1000-8000RPM范圍內都非常穩定。本機啟動快速、轉數穩定，可以保證膜層厚度的均勻性與*性。此外，在安裝結構上，采取了減震措施，使得運轉時噪音很低。該設備操作簡單、清理方便，體積小巧，因此該設備被廣泛應用于各大專院校及科研院所當中。

VTC-100真空旋轉涂膜機具有操作簡單、清理方便，體積小巧等優點，主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。設備標配3個不同大小的真空吸盤，可根據樣品尺寸不同選擇不同的真空吸盤。工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上，該設備利用兩段程序控制速度。首先開動涂膜機將設備轉數設置在一定的轉數范圍內，在此轉數范圍內設置一定的注膠時間對樣品進行注膠，注

VTC-200真空旋轉涂膜機/勻膠機主要應用于大專院校、科研院所的實驗室中的薄膜形成。本機利用高速旋轉使粘滯系數較大的膠體、溶液等材料均勻地涂覆在樣件表面。

VTC-200P真空旋轉涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。VTC-200P真空旋轉涂膜機腔體不可抽真空，工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上，該設備可儲存12組程序，每組程序包含6個運行階段。不同運行階段設備轉數不同，使設備緩慢提升速度*限速度，有利于薄膜材料在樣品表面均勻成膜，且不會過多浪費，節約材料。腔室的上蓋可以對樣品進

VTC-100PA真空旋轉涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。設備標配兩個不同大小的真空吸盤，可根據樣品尺寸不同選擇不同的真空吸盤。工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上，該設備可儲存12組程序，每組程序包含6個運行階段。不同運行階段設備轉數不同，使設備緩慢提升速度*限速度，有利于薄膜材料在樣品表面

微型吸盤與VTC-100配用，是針對微小樣片的固定而設計。選用優質塑膠制作而成，具有操作方便，吸附穩定的優點。