單靶磁控濺射儀

產品型號

VTC-16-1HD

安裝條件

本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水：設備配有自循環冷卻水機（加注純凈水或者去離子水）
2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地
3、氣：設備腔室內需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭）及減壓閥
4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上
5、通風裝置：需要

主要參數

1、電源電壓：220v  50Hz
2、功率：900W
3、腔體內徑：φ164mm
4、極限真空度:9.0×10-4Pa
5、樣品臺加熱溫度：RT-500℃，精度±1℃（根據實際需要提升溫度）
6、靶槍數量：1個（在真空室下方）
7、靶槍冷卻方式:水冷
8、靶材尺寸：φ2〞，厚度0.1-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同）
9、樣品臺：φ86mm
10、樣品臺:1rpm-20rpm內可調。
11、直流濺射功率：500W；射頻濺射功率：300W。
12、開關蓋方式：自動升降上蓋。
13、工作氣體:Ar等惰性氣體。
進氣氣路：質量流量計進氣，1-100SCCM可調。

產品規格

14、產品規格：
·尺寸：
主機尺寸：750mm×450mm×1020mm
真空室規格：φ164×172mm
·重量：100kg

標準配件

1直流電源控制系統1套
2射頻電源控制系統1套
3分子泵（德國進口或者國產更大抽速）1臺
4冷水機1臺
5冷卻水管（Ø6mm）2根

可選配件

1、金、銦、銀、白金等各種靶材，可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。
2、膜厚檢測系統。